Fused Silica Praeclara Scelerisque et Chemical Properties ut Crucible Material
- Electro-quartz
- Fused vicus
- Fused silica massam
Brevis Descriptio
Applications
Silica fusa est materia optima rudis usui in fundis, refractoriis, fundamentis, ceramicis technicis, et aliis applicationibus quae constantem, altam puritatem productam requirunt cum expansione scelerisque nimis humilis.
| Compositio chemica | Primum Grade | Typical | Secundus Gradus | Typical |
| SiO2 | 99.9%min | 99.92 | 99.8% min | 99.84 |
| Fe2O3 | 50ppm max | 19 | 80ppm max | 50 |
| Al2O3 | 100ppm max | 90 | 150ppm max | 120 |
| K2O | 30ppm max | 23 | 30ppm max | 25 |
Processus productionis et Propriae
Silica mixta ex alto puritatis silica facta est, technologiae fusionis singularis usus ad optimam qualitatem curandam. Noster Fused Silica XCIX% amorpho est, et coefficientem maxime humilem dilatationis scelerisque ac resistentiae scelerisque inpulsae habet. Silica fusca iners est, optimam stabilitatem chemicam habet et electricam conductionem valde humilem habet.
Vicus fusus habet praecipuas possessiones scelerisque et chemicas sicut materias uasculatas unius cristalli incrementi e liquefactione, et altissima puritas et humilis impensa eam maxime allicit pro incremento summus puritatis crystallorum. Sed in incremento quorundam generum crystallorum, a. layer of pyrolytic carbonis coating necessaria est inter liquefactum et vicus uasculum.
Key Properties of Fused Silica
Silica fusca varia notas habet tum circa proprietates mechanicas, scelerisque, chemicas et opticas;
• Durum est et robustum, et non nimis difficile ad machinam et politionem. (Adhiberi etiam potest laser micromachining).
• Transitus vitreus princeps temperatus difficilius dissolvit quam alia vitrea optica, sed etiam significat operationes altas temperaturas relative possibilia esse. Sed silica fusa devitrificationem (Crystallizationem localem in forma cristobalitarum) supra 1100 °C exhibere potest, praesertim sub impressione quarundam immunditiarum vestigii, et haec proprietates opticas corrumpit.
• Expansio scelerisque coefficientis est valde humilis – circa 0.5 · 10−6 K−1. Hoc pluries humilius est quam in specula typica. Etiam scelerisque expansio circa 10−8 K−1 multo debilior fieri potest cum modificatione silicae fusae cum dioxide quodam titanio, a Corning [4] introducto, et ultra vitrum expansionem humilem vocavit.
• Princeps scelerisque concussa resistentia est ex infirma expansione scelerisque; Modus est accentus mechanicus etiam cum graduum caliditatis caliditas accidit propter refrigerationem celeri.
• Silica chemica valde pura esse potest, ratione fabricandi (vide infra).
• Silica chemica valde caret, excepto acido hydrofluorico et solutionibus valde alkalinis. Ad temperaturas elevatas, est etiam aliquantum solubile in aqua (substantialiter plus quam vicus crystallinus).
• Diaphaneitas regio satis lata est (circiter 0,18 µm ad 3 µm), usum silicae infusae non solum per totam regionem spectralem visibilem, sed etiam in ultraviolaceo et ultrarubro praebens. Sed termini substantialiter dependent a qualitate materiali. Exempli gratia, vincula valida ultrarubrum effusio ex OH contenti causari possunt, et UV effusio immunditiarum metallicarum (vide infra).
• Materia amorphosa, silica fusa, optice isotropica est, contra vicus crystallinus. Hoc implicat quod nullam birefringentiam habet, eiusque index refractivus (vide figuram 1) una formula Sellmeier insigniri potest.
